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某大型电子元器件制作企业坐落华东地区，首要出产集成电路板、半导体元件等高科技产品。在出产的悉数过程中，运用氢氟酸进行硅片清洗和蚀刻工序，发生了很多含氟废水。因为当地环保规范日益严厉，企业原有的简略中和处理工艺已不足以满意排放要求，急需建造一套专业的高浓度含氟废水净化处理体系。
该企业发生的含氟废水大多数来源于三个工段：硅片清洗废水、蚀刻工序废水和设备冲刷废水。废水中的首要污染物包含氟离子（F-浓度约800-1200mg/L）、少数重金属离子（如铜、镍等）、有机溶剂残留及酸碱物质。废水pH值动摇较大，介于2-11之间，日排放量约为150吨。
：经过主动加药体系，将废水pH值调整至适合沉积反响的6.5-7.5规模。
：投加氯化钙和聚合氯化铝（PAC），氟离子与钙离子构成氟化钙沉积，一起PAC起到絮凝效果。
该处理体系自投入运转以来，出水氟离子浓度安稳在6mg/L以下，远低于国家《污水归纳排放规范》（GB8978-1996）规则的10mg/L限值。其他各项目标如COD、SS、重金属等均到达一级排放规范。体系主动化程度高，运转安稳，处理本钱控制在合理规模内，得到了当地环保部门的高度认可。
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